Yıl 2013, Cilt 1, Sayı 1, Sayfalar 7 - 14 2013-04-01

A Review On Variable MEMS Mirrors For Photo-Lithographic Masks
Foto-Litografik Maskeler İçin Değişen MEMS Aynaları Üzerine Bir Derleme

Mehmet Akif Erişmiş [1]

391 399

This paper presents a review on using MEMS based mirror arrays to achieve maskless lithography in order to eliminate mask costs in the micro fabrication processes. With the advanced technology nodes, it becomes more and more costly to produce the lithography masks. Especially with the extreme ultraviolet lithography technique, the necessity to use maskless lithography becomes more obvious. Several universities and companies fabricated tilting mirror style or piston style mirror arrays to propose a solution to maskless lithography processes.
Bu makale MEMS tabanlı mikro-ayna dizilerinin mikro-üretim adımlarında maske maliyetini azaltmak için maskesiz litografi elde etmek amaçlı kullanılması hakkında bir derleme sunmaktadır. Gelişmiş teknoloji nodlarıtla birlikte litografi maskelerini üretmek daha da pahalı olmaktadır. Özellikle EUV (ekstrim ultraviolet litografi) tekniğinde, maskesiz litografi kullanmak ihtiyacı daha da aşikar olmuştur. Maskesiz litografi adımlarına bir çözüm olması amacıyla, çeşitli üniversite ve şirketler dönen veya piston şeklinde mikro-ayna dizileri üretmiştir.
  • M.J.Madou, “Fundamentals of Microfabrication – The Science and Miniaturization, Second Edition”, CRC Press, (2002).
  • J.E.Bjorkholm,“EUV Lithography—The Successor to Optical Lithography?”, Intel Technology Journal, (Q3), 1-8, (1998).
  • R.R.Shaller,“Moore’s Law: past, present, and future”, IEEE Spectrum, 52-59, (1997).
  • R.H.Stulen,“13-nm Extreme Ultraviolet Lithography”, IEEE Journ. of Quantum Electronics 1 (3), 970-975, (1995).
  • N.Savage,“A Revolutionary Chipmaking Technique?”, IEEE Spectrum, 18, (2003). http://www.nikon-precision.com/docs/euv.pdf
  • C.Gwyn,“EUV Lithography Update,” SPIE OE Magazine, 22-24, (2002).
  • N.Choksi, D.S.Pickard, M.McCord, R.F.Pease, Y.Shroff, Y.Chen, W.Oldham, and D.Markle,“Maskless extreme ultraviolet lithography”, Journ. of Vacuum Science and Technology, B17 (6), 3047-3051, (1999).
  • N.Harned and S.Roux,“Progress Report: Engineers take the EUV lithography challenge”, SPIE OE Magazine, 18-20, (2003). F.Niklaus, S.Haasl, and G.Stemme, “Arrays of monocrystalline silicon micromirrors fabricated using CMOS compatible transfer bonding,” IEEE Journ. of MEMS, 465- 469, (2003).
  • J.M.Younse, “Projection Display Systems based on the digital micromirrorTM device (DMDTM )”, SPIE 2641, 64-75, (1995).
  • K-N.Lee, D.S.Shin, W-J.Chung, Y-K.Kim, and Y-S.Lee, “Protein patterning by virtual mask photolithography”, IEEE Conf. on Microtechnologies in Medicine&Biology, 136-139, (2002).
  • Y.Shroff, Y.Chen, W.G.Oldham, “Optical Analysis of Nanomirror Based Pattern Generation for Maskless lithography”, Techcon (2003).
  • H.Lakner, P.D¨urr, U. Dauderstadt, W.Doleshall, and J.Amelung, “Design and fabrication of micromirror arrays for UV-Lithography”, SPIE 4561, 255-264, (2001).
  • Y.Chen, C.Chu, Y.Shroff, and W.G.Oldham, “Fabrication and Dynamics of Electrically-Damped Double-Comb Nanomirrors for EUV Maskless lithography,” Techcon (2003).
  • Y.Shroff, Y.Chen, and W.G.Oldham, “Fabrication of parallel-plate nanomirror arrays for extreme ultraviolet maskless lithography”, Journ. of Vacuum Science and Technology, B19 (6), 2412-2415, (2001).
  • Y.Chen, Y.Shroff, and W.Oldham,“Modeling and control of nanomirrors for EUV maskless lithography,” Modeling and Simulation of Microsystems,, 602-604, (2000).
  • J-S.Wang, I.W.Jung, and O.Solgaard,“Fabrication method for elastomer spatial light modulators for short wavelength maskless lithography,” Sensors and Actuators, A 114, 52535, (2004).
  • L.Erdmann, A.Deparney, F.Wirth, and R.Brunner,“MEMS based lithography for the fabrication of microoptical components,” SPIE 5347, 79-84, (2004). www.tpd.tno.nl/smartsite210.html
  • H.Martinsson and T.Sandstrom,“Rastering for SLM-based mask-making and maskless lithography”, SPIE 5567, 557- 564, (2004).
Birincil Dil tr
Konular
Dergi Bölümü Makaleler
Yazarlar

Yazar: Mehmet Akif Erişmiş

Bibtex @ { apjes29254, journal = {Akademik Platform Mühendislik ve Fen Bilimleri Dergisi}, issn = {}, eissn = {2147-4575}, address = {Akademik Platform}, year = {2013}, volume = {1}, pages = {7 - 14}, doi = {10.5505/apjes.2013.54264}, title = {Foto-Litografik Maskeler İçin Değişen MEMS Aynaları Üzerine Bir Derleme}, key = {cite}, author = {Erişmiş, Mehmet Akif} }
APA Erişmiş, M . (2013). Foto-Litografik Maskeler İçin Değişen MEMS Aynaları Üzerine Bir Derleme. Akademik Platform Mühendislik ve Fen Bilimleri Dergisi, 1 (1), 7-14. DOI: 10.5505/apjes.2013.54264
MLA Erişmiş, M . "Foto-Litografik Maskeler İçin Değişen MEMS Aynaları Üzerine Bir Derleme". Akademik Platform Mühendislik ve Fen Bilimleri Dergisi 1 (2013): 7-14 <http://dergipark.gov.tr/apjes/issue/2199/29254>
Chicago Erişmiş, M . "Foto-Litografik Maskeler İçin Değişen MEMS Aynaları Üzerine Bir Derleme". Akademik Platform Mühendislik ve Fen Bilimleri Dergisi 1 (2013): 7-14
RIS TY - JOUR T1 - Foto-Litografik Maskeler İçin Değişen MEMS Aynaları Üzerine Bir Derleme AU - Mehmet Akif Erişmiş Y1 - 2013 PY - 2013 N1 - doi: 10.5505/apjes.2013.54264 DO - 10.5505/apjes.2013.54264 T2 - Akademik Platform Mühendislik ve Fen Bilimleri Dergisi JF - Journal JO - JOR SP - 7 EP - 14 VL - 1 IS - 1 SN - -2147-4575 M3 - doi: 10.5505/apjes.2013.54264 UR - http://dx.doi.org/10.5505/apjes.2013.54264 Y2 - 2019 ER -
EndNote %0 Akademik Platform Mühendislik ve Fen Bilimleri Dergisi Foto-Litografik Maskeler İçin Değişen MEMS Aynaları Üzerine Bir Derleme %A Mehmet Akif Erişmiş %T Foto-Litografik Maskeler İçin Değişen MEMS Aynaları Üzerine Bir Derleme %D 2013 %J Akademik Platform Mühendislik ve Fen Bilimleri Dergisi %P -2147-4575 %V 1 %N 1 %R doi: 10.5505/apjes.2013.54264 %U 10.5505/apjes.2013.54264
ISNAD Erişmiş, Mehmet Akif . "Foto-Litografik Maskeler İçin Değişen MEMS Aynaları Üzerine Bir Derleme". Akademik Platform Mühendislik ve Fen Bilimleri Dergisi 1 / 1 (Nisan 2013): 7-14. http://dx.doi.org/10.5505/apjes.2013.54264